關於連邦 | 本所期刊 | 2008/08月(1)
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日本2008年智慧財產法修正草案

為了對智慧財產權策略應用提供立即有效的保護,日本2008年擬就發明、新型新式樣、商標及其他智財相關法律之程序規定進行修正,內容如下:

一、重新檢討發明、新型的非專屬授權登記制度:
為了有效保護發明專利於「申請期間」的授權行為,有必要建立一套登記制度。此外,對於非專屬授權應登記的項目,例如被授權之對象,被授權人往往希望不公開,只在必要時對利害關係人等特定對象揭露。關於此一制度之修正,將自2008年4月18日新法公布日起一年內正式生效。

二、修正發明、新式樣、商標提起上訴期間:
對發明被駁回提起上訴之期間,及對新式樣、商標被駁回後拒絕補正而提起上訴之期間,將由原規定的「自駁回裁定送達日起30日」,延長為「自駁回裁定送達日起3個月」。此外,申請人得對申請案進行修正的期間,例如修正發明案的申請專利範圍,將從原規定的「自提起上訴之日起30日內」,改為「僅得於提起上訴同時」修正申請專利範圍。關於此一制度之修正,將自2008年4月18日新法公布日起一年內正式生效。

三、擴大發明、新型優先權證明文件得以電子方式交換的國家:
優先權證明文件得以電子方式交換的國家,日本專利局將從原規定的下發優先權證明文件國家,擴大到其他國家甚至國際組織。關於此一制度之修正,將自2008年4月18日新法公布日起一年內正式生效。

四、調降專利、商標申請案之規費:
為減輕中小企業支付專利費用的壓力,10年以上專利年費平均調降12%;此外,相較於其他國家,日本商標領證費偏高,此次也一併調降,平均降幅為43%。此修正自2008年6月1日起生效。

五、簡化規費匯款作業:
為了簡化繳納規費(例如年費)的匯款作業,自2009年1月1日起將導入更簡便的匯款方式。

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