關於連邦 | 本所期刊 | 2010/09月
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日本專利上訴體系概況

專利上訴通常有二種作用:第一種是爭取上級單位做出不同審查結果的機會,第二種是解決專利有效性等衝突之爭議。前者適用於申請專利獲准前,就審查委員所為的處分提起上訴;後者適用於申請專利獲准後,認為專利應屬無效而提上訴。
目前日本就二種專利上訴的實務概況大致如下:

一、對專利審查委員下發之核駁決定提上訴:
近年來提出此類上訴的案件量持續增加,在2009年卻比2008年下降了22%;詳言之,2009年所做的上訴決定中有48%為准予上訴,而這些准予上訴的案件中約有69%改判為核准專利,但以往因上訴推翻原處分改判為核准專利的比例都在50%以下。2009年從提申上訴日起至收到第一份上訴審查報告的時間平均為24.7個月。

若因不服審查委員之處分而於上訴程序一併提出修正,原審查委員將依據修正後的申請專利範圍,在上訴程序進行審查前,再次審查其可專利性(即進行「再審」)。若審查委員認定修正後的申請專利範圍可核准專利,則直接撤銷原處分另為核准專利之處分。若審查委員認定修正後的申請專利範圍仍應予核駁,案件才會進入上訴審查階段。近幾年再審階段即獲准專利的數量有增加之趨勢,已經連續2年有超過50%的申請案於再審階段就核准專利了。

二、認為專利應屬無效而提上訴:
從2006年起這類案件量一直都持平,但此類上訴案件2009年比2008年增加了12%。2009年做出的上訴決定中,有50%為准予上訴,但准予上訴的比例從2005年起都超出60%,所以相較之下2009年准予上訴比例大幅降低。
2009年此類上訴等待結果的時間約為8.8個月,比2008年降低了0.7個月。

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