根據 2014 年 5 月 14 日公告的專利法部分修正草案，日本將恢復專利核准公告後異議制度（opposition system），預計於公告後一年內施行，確切施行日期尚未公布。修正草案重點如下：
（1）恢復專利核准公告後異議制度：任何人（不得匿名）得於專利核准公告日起 6 個月內提出異議，主要以日本特許廳與專利權人間的書面資料進行審查。只有專利權人可針對日本特許廳的撤銷決定提出上訴，異議人則不得針對日本特許廳的維持決定提出上訴；但若異議人為利害關係人，可另提出舉發。
（2）可提出異議事由：缺乏專利三性（新穎性、進步性、產業利用性）、重複授予專利、欠缺實施例、欠缺說明書支持、欠缺明確性；若以外文本提申但後來超出外文本原揭露範圍，也可以提出異議。換言之，只要和可專利性實質相關的事由都可以提出異議，但如果只是形式問題，則不得提出異議。
（3）在專利撤銷理由通知書寄出後不得再修改異議摘要，舊規定則是異議審查期間得隨時修改異議摘要。
（4）一律以所有的書面資料進行書面審，沒有面詢。
（5）在異議程序中，專利權人得提出更正，但僅限於縮減申請專利範圍、訂正誤記或誤譯、釋明不明瞭之記載、將附屬項改寫為獨立項。如果更正會使申請專利範圍擴大，則一概不准。